International Journal of Engineering and Innovative Research
Yazarlar: ["Ahmet Buğrahan BAYRAM", "Tuğba ÇORLU"]
Konular:-
DOI:10.47933/ijeir.1178891
Anahtar Kelimeler:Ardışık iyonik tabaka adsorpsiyonu ve reaksiyonu (SILAR),Kalay dioksit (SnO2),Karakterizasyon
Özet: Bu çalışmada, platin interdigital kontakları üzerinde ardışık iyonik absorpsiyon ve reaksiyon yöntemleri ile SnO2 ve Ti katkılı SnO2 ince filmler üretilmiştir. Üretilen ince filmler tavlanmamıştır. Amorf ince filmlerin yapısal özellikleri, X-Işını Kırınım (XRD) kullanılarak, morfolojik özellikleri, Taramalı Elektron Mikroskobu (SEM) kullanılarak, Ultraviyole-görünür Spektrofotometre (UV-VIS) ve Keithley 2400 cihazlarının optik ve elektriksel özellikleri araştırıldı. XRD sonuçlarından ince filmlerin amorf bir yapı olduğu belirlendi. SEM ile yapılan yüzey analizi, tüm filmlerin kaplanmış ve pürüzsüz olduğunu göstermektedir. Akım-voltaj ölçümleri, ince filmlerin omik olduğunu göstermektedir. Lnρ sonuçları ayrıca, SnO2 ince filmler için en düşük direnç değerinin 320 °C sıcaklıktan sonra ve Ti katkılı SnO2 ince filmler için 360 °C sıcaklıktan sonra olduğunu göstermektedir.